在不损失性能的情况下，如何有效抑制窄带隙半导体集成电路中漏电流和逻辑损耗，是碳基半导体研发过程中的“老大难”。它严重阻碍了新材料半导体在超大规模集成电路中的应用，很多业内团队对此毫无头绪。

日前，首发展投资企业——北京朗润华碳科技有限责任公司的彭练矛—张志勇团队再次取得重要进展，在全球范围内首次制定出“加强互补型逻辑电路”的新方案。该方案彻底解决了困扰业内已久的碳基集成电路中碳纳米管漏电流高、电压损耗大的问题，在不损失性能的情况下，将静态功耗降低至原来的千分之一。

图.1加强互补型逻辑电路逻辑结构图

“加强互补型逻辑电路”应用范围广、性能高且功耗更低，不仅在不增加电源数目的情况下有效抑制窄带隙半导体集成电路中的漏电流和逻辑损耗，它还可以推广到任何窄带隙半导体的集成电路中，比如像铟砷超大规模的集成电路。该研究成果以《基于窄带隙半导体的高性能、低功耗电路应用的强反馈互补金属氧化物半导体逻辑》为题，已在线发表于材料领域著名期刊《美国化学学会 纳米》。

公司介绍

北京朗润华碳科技有限责任公司由首发展与北京大学彭练矛教授团队于2015年9月创立，致力于开展碳基集成电路的产业化工作。公司创始团队创造性地提出并实现了碳纳米管“无掺杂CMOS技术”，解决了碳基集成电路的一系列基础问题，发展了高性能碳管CMOS晶体管和光电器件的批量制备技术，并率先实现了中等规模的碳基集成电路制备。后续公司有望将集成电路技术推进到3纳米节点以下，实现速度更快、功耗更低、集成度更高的新型碳基集成电路芯片，推动未来信息技术的发展,为后摩尔时代的电子学带来新一轮的繁荣。

首发展自投资朗润华碳以来，积极提供后续增值服务，加速公司培育、孵化和成长。一是协助对接产业链上下游资源，并支撑创新链整合，加速转化进程。二是将其纳入集团运营孵化载体——中关村前孵化创新中心，帮助团队建成首条4英寸3微米碳基集成电路实验线，并为其争取租金补贴和人才引进等政策支持。三是共同组建北京元芯碳基集成电路研究院，用更高层面的平台和更为开放的机制，实现与国家资源的无缝对接。